Oberflächenreinigung in UHV

VUV Lampen

In der Industrie ist die Funktionalisierung und Beschichtung von Oberflächen unter Vakuumbedingungen heute Stand der Technik und nicht mehr wegzudenken.

Hierzu werden die Oberflächen unter Vakuum oder Inert-Atmosphäre behandelt. Bei jedem Evakuierungsvorgang stellt die langsame Desorption von Wasserfilmen auf der Oberfläche der Kammer sowie organische Verunreinigungen ein Problem dar.

Bisher war es üblich, die Desorption durch Aufheizen auf eine Temperatur von 250°C zu beschleunigen. Dieser Prozess benötigt jedoch weiterhin einige Stunden.

Kaltes Aufheizen der Vakuumkammer mit VUV

Peschl Ultraviolet bietet spezielle VUV-Strahlenquellen an, welche mittels hochenergetischer “kalter” UV-Strahlung im

Vakuum-UV (VUV) bei 185nm (ca. 6,7 eV) bzw. bei 172 nm emittieren.

Diese Wellenlängen entsprechen der Resonanzfrequenz von H₂O und werden verwendet um die molekularen Bindungen auf dem Substrat schnell aufzulösen, woraufhin die freien gasförmigen Moleküle extrahiert werden können.

Weiterhin können Oberflächen von organischen Verunreinigungen effizient und schnell befreit werden.

Sprechen Sie uns an, unsere Anwendungsberater informieren Sie gerne umfassend über die technologischen Möglichkeiten dieser einzigartigen Technologie.